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 Fabrication of the low-k films with tunable k value as spacers in advanced CMOS technology 用先进CMOS技术制备k值可调的低k薄膜作为间隔层
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Lewen Qian; Xin Sun; Tao Liu; Ziqiang Huang; Xinlong Guo; et al 出版日期：2024-02-29 |
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