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Annealing effects on properties of Ga2O3 films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition
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网址
DOI
10.1016/j.matlet.2018.11.012 doi
其它 期刊:Materials Letters
作者:Fengfeng Shi; Jun Han; Yanhui Xing; Junshuai Li; Li Zhang; et al
出版日期:2018-11-12
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jellorio 在 2025-09-23 15:23:39 发布自福建,悬赏 10 积分
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