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Atomic Layer Deposition of Ruthenium Using the Novel Precursor bis(2,6,6-trimethyl-cyclohexadienyl)ruthenium
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DOI
10.1021/cm2004825 doi
其它 期刊:Chemistry of Materials
作者:Keith Gregorczyk; Laurent Henn-Lecordier; Julien Gatineau; Christian Dussarrat; Gary Rubloff
出版日期:2011-04-28
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