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标题
Non-fluorine KrF photoresist for 28nm node application
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DOI
10.1117/12.3086221 doi
其它 期刊:Advances in Patterning Materials and Processes XLIII
作者:Eric Cheng Yu Fang; Chan Yuan Hu; Ting Chun Lin; Cooper Ma; Zhilei Yuan; et al
出版日期:2026
求助人
xu 在 2026-06-07 19:41:50 发布自上海,悬赏 20 积分
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