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A novel approach to etch-process-aware intensive layout retarget
一种基于刻蚀工艺感知的密集布局重定向新方法
相关领域
过度拟合
计算机科学
光学接近校正
过程(计算)
半导体器件制造
维数(图论)
计量学
薄脆饼
可靠性工程
计算机工程
机器学习
工程类
纯数学
电气工程
操作系统
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人工神经网络
数学
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期刊: 作者:Jeeyong Lee; Yangwoo Heo; Ryanggeun Lee; Sang–Wook Kim; Ji-Suk Hong; et al 出版日期:2023-05-01 |
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