Development of an innovative low-temperature PEALD process for stress-compensated TiO2 and SiO2 multilayer anti-reflective coatings

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标题	Development of an innovative low-temperature PEALD process for stress-compensated TiO2 and SiO2 multilayer anti-reflective coatings
网址	https://doi.org/10.1186/s11671-025-04238-2
DOI	10.1186/s11671-025-04238-2 doi
其它	期刊：Discover Nano 作者：Duy Thanh Cu; Kuan-Yu Ko; Wen-Hao Cho; Chao-Te Lee; Meng-Chi Li; et al 出版日期：2025-03-24
求助人	Zex 在 2026-08-30 22:38:14 发布自北京，悬赏 10 积分
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