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 Dipole formation and electrical properties of high-k/SiO2 interface according to the density of SiO2 interfacial layer |
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期刊：Current Applied Physics 作者：Hye Won Yun; Jinho Lee; Ryun Na Kim; Seung Hwan Ji; Sang Ouk Ryu; et al 出版日期：2022-02-25 |
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