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A Comparison of Cl2 and HBr/Cl2-Based Polysilicon Etch Chemistries: Impact on SiO2 and Si Substrate Damage |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:John F. Rembetski; Y D. Chan; E. Boden; Tieer Gu; O. O. Awadelkarim; et al 出版日期:1993-06-01 |
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(2025-6-4)