| 标题 |
Optimization of PVD Ti/CVD TiN Liner for 0.35 μm Tungsten Plug Technology 相关领域
锡
材料科学
钨
物理气相沉积
接触电阻
溅射
冶金
化学气相沉积
复合材料
薄膜
光电子学
图层(电子)
纳米技术
涂层
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:MRS Proceedings 作者:C.-K. Wang; L. M. Liu; D. M. Liao; D. C. Smith; M. Danek 出版日期:2011-04-06 |
| 求助人 |
科研求助111
在
2026-09-04 09:35:00 发布,悬赏 10 积分
|
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)