Ar/NH3 Radio‐Frequency Plasma Etching and N‐doping to Stabilize Metallic Phase 1T‐MoS2 for Fast and Durable Sodium‐Ion Storage

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标题	[求助补充材料] Ar/NH3 Radio‐Frequency Plasma Etching and N‐doping to Stabilize Metallic Phase 1T‐MoS2 for Fast and Durable Sodium‐Ion Storage
网址	https://doi.org/10.1002/adfm.202408035
DOI	10.1002/adfm.202408035 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Shijun Tian; Weiheng Chen; Ruoxing Wang; Chu Qin; Zhong‐Jie Jiang; et al 出版日期：2024-07-10
求助人	123 在 2026-09-17 21:28:42 发布自安徽，悬赏 20 积分
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