In Situ Modulation of Oxygen Vacancy Concentration in Hf0.5Zr0.5O2−x Thin Films and the Mechanism of Its Impact on Ferroelectricity

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标题	In Situ Modulation of Oxygen Vacancy Concentration in Hf0.5Zr0.5O2−x Thin Films and the Mechanism of Its Impact on Ferroelectricity
网址	https://www.mdpi.com/2079-6412/14/9/1121/pdf
DOI	10.3390/coatings14091121 doi
其它	期刊：Coatings 作者：Shikai Liu; Xingyu Li; Gang Li; Shaoan Yan; Yingfang Zhu; et al 出版日期：2024-09-02
求助人	叶子在 2026-03-27 16:29:44 发布自山东，悬赏 10 积分
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