| 标题 |
  Plasma Ion Bombardment Induced Heat Flux on the Wafer Surface in Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch 相关领域
薄脆饼
朗缪尔探针
等离子体
材料科学
反应离子刻蚀
感应耦合等离子体
蚀刻（微加工）
热流密度
温度电子
等离子体刻蚀
焊剂（冶金）
干法蚀刻
分析化学（期刊）
光电子学
离子
化学
等离子体诊断
纳米技术
热力学
传热
冶金
色谱法
物理
量子力学
有机化学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Sciences 作者：Sung‐Il Cho; Hyun Keun Park; Surin An; Sang Jeen Hong 出版日期：2023-08-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
null
Criminology34
yyds
MchemG
andrele
叶上
无极微光
叽了咕噜
YifanWang
笔记本
tuanheqi
荼黎
mmyhn
皮皮
辉辉
精明浩然
Tourist
Hayat
子车茗
什么时候能毕业
Alex
风清扬
asta
从容芮
皖公网安备34019202002308
