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标题
Evaluation of MoO₂Cl₂ Vapor Pressure and Its Surface Reactions: Implications for Advanced Thin Film Deposition
MoO₂Cl₂蒸气压及其表面反应的评价：对先进薄膜沉积的意义
相关领域
化学气相沉积 沉积（地质） 材料科学 薄膜 化学工程 化学 纳米技术 工程类 地质学 古生物学 沉积物
网址
https://doi.org/10.54615/2231-7805.149785
DOI
10.54615/2231-7805.149785 doi
其它 期刊：ASEAN Journal of Psychiatry
作者：Yeong Cheol Kim
出版日期：2024-01-01
求助人
js 在 2025-11-18 09:03:57 发布自福建，悬赏 10 积分
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