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Indium oxide thin film prepared by low temperature atomic layer deposition using liquid precursors and ozone oxidant
液体前驱体和臭氧氧化剂低温原子层沉积制备氧化铟薄膜
相关领域
原子层沉积 铟 图层（电子） 电阻率和电导率 臭氧 薄膜 沉积（地质） 材料科学 氧化物 氧化铟锡 分析化学（期刊） 化学工程 无机化学 化学 纳米技术 有机化学 沉积物 工程类 生物 古生物学 电气工程
网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2015.07.150
DOI
10.1016/j.jallcom.2015.07.150 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：W. J. Maeng; Dongwon Choi; Jozeph Park; Jin‐Seong Park
出版日期：2015-11-01
求助人
怕孤单的以云 在 2025-12-05 14:36:16 发布自北京，悬赏 10 积分
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