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标题
Mitigating the forbidden pitch of extreme ultraviolet lithography using mask optimization based on genetic algorithm
基于遗传算法的掩模优化缓解极紫外光刻的禁间距
相关领域
极紫外光刻 极端紫外线 进程窗口 临界尺寸 光学 平版印刷术 光刻 遗传算法 计算机科学 过程（计算） 航空影像 算法 物理 人工智能 机器学习 激光器 图像（数学） 操作系统
网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.21.4.043204
DOI
10.1117/1.jmm.21.4.043204 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology
作者：Ling Ma; Lisong Dong; Taian Fan; Xu Ma; Yayi Wei
出版日期：2022-12-20
求助人
renxinjiao 在 2025-12-30 19:04:22 发布自安徽，悬赏 20 积分
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