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 Mitigating the forbidden pitch of extreme ultraviolet lithography using mask optimization based on genetic algorithm 基于遗传算法的掩模优化缓解极紫外光刻的禁间距
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Ling Ma; Lisong Dong; Taian Fan; Xu Ma; Yayi Wei 出版日期：2022-12-20 |
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