Simulation of plasma-activated oxygen radical etching based on Penning ionization

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标题	Simulation of plasma-activated oxygen radical etching based on Penning ionization
网址	https://doi.org/10.1088/2058-6272/ade520
DOI	10.1088/2058-6272/ade520 doi
其它	期刊：Plasma Science and Technology 作者：Shitong 诗彤 NAI 佴; Jianhai 建海 HAN 韩; Wenbao 文宝 ZHAO 赵; Shaofeng 少锋 XU 徐; Jianjun 建军 SHI 石; Ying 颖 GUO 郭出版日期：2025
求助人	111 在 2026-01-20 17:27:59 发布自上海，悬赏 10 积分
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