Morphological characteristics and formation mechanism of latent scratches in chemical mechanical polishing

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标题	Morphological characteristics and formation mechanism of latent scratches in chemical mechanical polishing 化学机械抛光中潜在划痕的形貌特征及形成机理相关领域材料科学抛光潜在抑制接触面积高斯分布透射电子显微镜复合材料纳米技术化学数学条件作用经典条件反射统计计算化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.jmatprotec.2022.117689
DOI	10.1016/j.jmatprotec.2022.117689 doi
其它	期刊：Journal of Materials Processing Technology 作者：Xiaolong Han; Zhuji Jin; Qing Mu; Ying Yan; Ping Zhou 出版日期：2022-06-22
求助人	Lee 在 2025-10-10 10:04:19 发布自浙江，悬赏 10 积分
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