| 标题 |
Remarkably efficient acid generation in chemically amplified resist from quantum chemistry modeling 量子化学建模在化学放大抗蚀剂中高效产生酸
相关领域
重氮甲烷
分解
化学
抵抗
量子化学
分子
量子化学
计算化学
谱线
光化学
量子
有机化学
物理
超分子化学
图层(电子)
量子力学
天文
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者:Alex A. Granovsky; Anastasia V. Bochenkova; N. V. Suetin; David S. Fryer; Vivek K. Singh 出版日期:2007-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|