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 Efficient mask optimization for enhanced digital maskless lithography quality by improved particle swarm optimization algorithm 基于改进粒子群算法的高效掩模优化提高数字无掩模光刻质量
相关领域
粒子群优化
材料科学
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图层（电子）
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Shengzhou Huang; Dongjie Wu; Yuanzhuo Tang; Bowen Ren; Jiani Pan; et al 出版日期：2024-09-01 |
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