Deposition of high-density carbon layer for beyond EUV lithography

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标题	Deposition of high-density carbon layer for beyond EUV lithography 用于超EUV光刻的高密度碳层的沉积相关领域极紫外光刻材料科学平版印刷术溅射沉积光电子学下一代光刻溅射光学纳米技术图层（电子）抵抗薄膜电子束光刻物理
网址	https://doi.org/10.1117/12.3034871
DOI	10.1117/12.3034871 doi
其它	期刊：作者：Umi Fujimoto; Tetsuo Harada; Shinji Yamakawa; Takeo Watanabe 出版日期：2024-08-26
求助人	跳跃绮山在 2025-05-12 13:11:27 发布自江苏，悬赏 20 积分
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