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作者
Iason Giannopoulos,Iacopo Mochi,Michaela Vockenhuber,Yasin Ekinci,Dimitrios Kazazis
出处
期刊：Nanoscale
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
摘要
Our mirror-based lithographic technique achieves 5 nm half-pitch patterning with EUV light. This breakthrough pushes EUV lithography boundaries beyond the high-NA specifications and serves as a benchmarking platform for novel photoresists.
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