Gas baffle optimization for CF4 plasma uniformity in inductively coupled plasma etching: numerical simulations

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标题	Gas baffle optimization for CF4 plasma uniformity in inductively coupled plasma etching: numerical simulations
网址	https://doi.org/10.1088/2058-6272/addc1a
DOI	10.1088/2058-6272/addc1a doi
其它	期刊：Plasma Science & Technology 作者：Haoyu Song; Weifeng Zhao; Shitong 诗彤 NAI 佴; Shaofeng Xu; Jianjun Shi; et al 出版日期：2025-05-22
求助人	跳跃大雁在 2026-09-28 16:14:18 发布自北京，悬赏 10 积分
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