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 Polypeptoids: Exploring the Power of Sequence Control in a Photoresist for Extreme‐Ultraviolet Lithography 多肽类：探索用于极紫外光刻的光刻胶中序列控制的力量
相关领域
光刻胶
抵抗
平版印刷术
极紫外光刻
材料科学
异丙醇
紫外线
侧链
溶解度
溶解
聚合物
化学
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光电子学
有机化学
复合材料
图层（电子）
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期刊：Advanced materials and technologies 作者：Florian Käfer; Chaoqiuyu Wang; Yuming Huang; Francesca Bard; Rachel A. Segalman; et al 出版日期：2023-10-16 |
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