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Nanoscale Resist‐Free Patterning of Halogenated Zeolitic Imidazolate Frameworks by Extreme UV Lithography 卤化沸石咪唑骨架的极紫外光刻无抗蚀剂图案化
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期刊:Advanced Science 作者:Weina Li; Tianlei Ma; Pengyi Tang; Yunhong Luo; Hui Zhang; et al 出版日期:2025-03-05 |
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