Atomic layer deposition of tin oxide films using tetrakis(dimethylamino) tin

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标题	Atomic layer deposition of tin oxide films using tetrakis(dimethylamino) tin 相关领域原子层沉积锡材料科学石英晶体微天平氧化锡薄膜无定形固体氧化物分析化学（期刊） X射线光电子能谱化学工程纳米技术冶金化学结晶学吸附有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1116/1.2835087
DOI	10.1116/1.2835087 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jeffrey W. Elam; David Baker; Alexander J. Hryn; Alex B. F. Martinson; Michael J. Pellin; et al 出版日期：2008-01-29
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