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Area selective atmospheric pressure PECVD of organosilicon precursors: Role of vinyl and ethoxy groups on silicon oxycarbide deposition patterns - A case study
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网址
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.129001
DOI
10.1016/j.surfcoat.2022.129001 doi
其它 期刊：Surface and Coatings Technology
作者：Kishor Acharya; Simon Bulou; Thomas Gaulain; Patrick Choquet
出版日期：2022-10-24
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充电宝 在 2026-01-09 16:37:56 发布自河北，悬赏 10 积分
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