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标题
Molecular dynamics simulation of the interaction of an Ar/CH4 plasma with a surface: Growth, structure, and sputtering of the deposited C:H films
相关领域
溅射 分子动力学 离子 等离子体 材料科学 碳纤维 碳氢化合物 薄膜 分析化学（期刊） 结晶学 化学物理 化学 纳米技术 计算化学 有机化学 复合材料 物理 复合数 量子力学
网址
https://doi.org/10.1002/ppap.202400084
AI链接 wiley.com hal.science hal.sciencedoi.org
DOI
10.1002/ppap.202400084 doi
其它 期刊：Plasma Processes and Polymers
作者：Glenn Otakandza Kandjani; Pascal Brault; Maxime Mikikian; Armelle Michau; Khaled Hassouni
出版日期：2024-06-10
求助人
丸子 在 2026-01-06 15:22:10 发布自上海，悬赏 10 积分
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    帅气明辉 帅气明辉 Lv1 上传了文件

    待审核 Plasma Processes Polymers - 2024 - Kandjani - Molecular dynamics simulation of the interaction of an Ar CH4 plasma with a.pdf (2.94 MB)
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  • 1天前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载

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  • 1天前

    丸子 丸子 Lv1 求助人 发起了本次求助

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