| 标题 |
 Reducing Contact Resistance and Boosting Device Performance of Monolayer MoS2 by In Situ Fe Doping 相关领域
材料科学
单层
接触电阻
兴奋剂
半导体
光电子学
欧姆接触
纳米技术
纳米电子学
晶体管
薄脆饼
电气工程
电压
图层（电子）
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced Materials 作者：Hui Li; Mo Cheng; Peng Wang; Ruofan Du; Luying Song; et al 出版日期：2022-03-07 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
秋风
无极微光
DW
极限001
Enigma_GEB
潇洒的惋清
xing_xing
整齐的慕卉
aaaa
学术文献互助
积极凌旋
嘻嘻哈哈
山野下
YY
fudandan
aajhajkahna
平常迎天
Dean
林狗
初景
皖公网安备34019202002308
