Atomic layer deposition of ruthenium at 100 °C using the RuO4-precursor and H2

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标题	Atomic layer deposition of ruthenium at 100 °C using the RuO4-precursor and H2
网址	https://doi.org/10.1039/C4TC01961J
DOI	10.1039/C4TC01961J doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Matthias M. Minjauw; Jolien Dendooven; Boris Capon; Marc Schaekers; Christophe Detavernier 出版日期：2015
求助人	leo 在 2026-03-26 10:52:12 发布自江西，悬赏 10 积分
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