| 标题 |
Direct In Situ Cascade Photolithography of Perovskite Quantum Dot Patterns with High Light Conversion Efficiency and Enhanced Stability 相关领域
材料科学
光刻
量子点
级联
光电子学
光致发光
制作
发光二极管
热稳定性
钙钛矿(结构)
能量转换效率
量子效率
吸收(声学)
纳米技术
蓝光
平版印刷术
原位
二极管
荧光
发光
光子学
辐照
光强度
可见光谱
光敏剂
衰减系数
吸收光谱法
量子产额
泄漏(经济)
比探测率
整改
半导体
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Zihui Li; Jifei Ge; Chengbo Wang; Bin Tong; Gaoling Yang; et al 出版日期:2026-01-07 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)