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 Sub-10 nm Electron Beam Nanolithography Using Spin-Coatable TiO2 Resists 相关领域
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期刊：Nano Letters 作者：Mohammad S. M. Saifullah; K. R. V. Subramanian; E. Tapley; Dae Joon Kang; Mark E. Welland; et al 出版日期：2003-10-01 |
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