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 Oxide Structure-Dependent Interfacial Layer Defects of HfAlO/SiO2/Si Stack Analyzed by Conductance Method 电导法分析OfAlO/SiO2/Si叠层氧化物结构依赖的界面层缺陷
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期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：YI Ming Ding; D. Misra 出版日期：2015-04-29 |
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