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标题
Oxide Structure-Dependent Interfacial Layer Defects of HfAlO/SiO2/Si Stack Analyzed by Conductance Method
电导法分析OfAlO/SiO2/Si叠层氧化物结构依赖的界面层缺陷
相关领域
材料科学 退火（玻璃） 无定形固体 兴奋剂 等效氧化层厚度 原子层沉积 氧化物 栅极电介质 光电子学 化学气相沉积 电介质 等效串联电阻 高-κ电介质 金属浇口 分析化学（期刊） 薄膜 栅氧化层 纳米技术 复合材料 冶金 化学 结晶学 电气工程 工程类 电压 晶体管 色谱法
网址
https://doi.org/10.1149/ma2015-01/21/1391
DOI
10.1149/ma2015-01/21/1391 doi
其它 期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者：YI Ming Ding; D. Misra
出版日期：2015-04-29
求助人
xxx 在 2025-07-15 15:49:07 发布自陕西，悬赏 10 积分
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