Preparing Smaller InP Quantum Dots by Suppressing Over‐Etch Using Core Protective Layer and Ammonium Fluoride as Alternative Etchant

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标题	Preparing Smaller InP Quantum Dots by Suppressing Over‐Etch Using Core Protective Layer and Ammonium Fluoride as Alternative Etchant 用芯保护层和氟化铵作为替代蚀刻剂抑制过蚀刻制备更小的InP量子点相关领域材料科学量子点蚀刻（微加工）图层（电子）芯（光纤）氟化物氟化铵光电子学纳米技术无机化学复合材料化学
网址	https://doi.org/10.1002/adom.202402051
DOI	10.1002/adom.202402051 doi
其它	期刊：Advanced Optical Materials 作者：Hsueh‐Shih Chen; Chang‐Wei Yeh; Hsuan‐Yu Lee; Yi‐Ping Ho 出版日期：2024-12-06
求助人	liukuangxu 在 2025-04-14 16:53:17 发布自浙江，悬赏 10 积分
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