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Effects of LPCVD-deposited thin intrinsic silicon films on the performance of boron-doped polycrystalline silicon passivating contacts
LPCVD沉积本征硅薄膜对硼掺杂多晶硅钝化触头性能的影响
相关领域
材料科学 多晶硅 钝化 化学气相沉积 纳米晶硅 硅 非晶硅 结晶 晶界 无定形固体 兴奋剂 晶体硅 光电子学 化学工程 纳米技术 复合材料 图层（电子） 微观结构 结晶学 薄膜晶体管 化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.solener.2023.112078
DOI
10.1016/j.solener.2023.112078 doi
其它 期刊：Solar Energy
作者：Yang Chen; Xiajie Meng; Fan Jian-bin; Mingzhang Deng; Haoran Ye; et al
出版日期：2023-10-11
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青街向晚 在 2025-05-20 12:38:57 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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