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标题
Die-level nano-topography metrology to characterize the stress-induced in-plane distortion contribution to overlay
表征应力诱导的面内畸变对覆盖层贡献的芯片级纳米形貌计量
相关领域
材料科学 计量学 薄脆饼 覆盖 退火（玻璃） 模具（集成电路） 绝缘体上的硅 纳米- 硅 光电子学 光学 复合材料 计算机科学 纳米技术 物理 程序设计语言
网址
https://doi.org/10.1117/12.2658296
DOI
10.1117/12.2658296 doi
其它 期刊：
作者：V. Balan; Florent Michel; Ivanie Mendes; C. Lapeyre; Lionel Vignoud; et al
出版日期：2023-04-18
求助人
收手吧大哥 在 2025-06-27 13:06:49 发布自河南，悬赏 20 积分
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