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![]() 用于MEMS应用的高真空MOCVD法外延碳化硅薄膜的沉积
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期刊:Thin Solid Films 作者:Dong Chan Lim; Hongsub Jee; J.W Kim; Jin Soo Moon; S.-B Lee; et al 出版日期:2004-04-03 |
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