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![]() PECVD非晶碳化硅薄膜成分、结构和键合的多技术研究
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材料科学
等离子体增强化学气相沉积
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Scott Greenhorn; Valérie Stambouli; Edwige Bano; F. Pierre; Nicolas Gauthier; et al 出版日期:2025-03-15 |
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