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标题
Suppressing Interface Traps Density of Top-Gate MoS 2 Transistor via H 2 O Presoak for HfO 2
网址
http://dx.doi.org/10.1109/led.2026.3685266
DOI
10.1109/led.2026.3685266 doi
其它 期刊：IEEE Electron Device Letters
作者：Kaiyue He; Zhanqi Li; Yijing Yang; Yifu Sun; Lingyu Zhang; et al
出版日期：2026-06-01
求助人
科研浦东 在 2026-09-10 23:19:02 发布自江苏，悬赏 10 积分
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  • 6小时前

    My_magnum_opus My_magnum_opus Lv1035 上传了文件

    待审核 Suppressing_Interface_Traps_Density_of_Top-Gate_MoS2_Transistor_via_H2O_Presoak_for_HfO2.pdf (1.51 MB)
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  • 7小时前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载

    23:19:05 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载
    23:19:03 科研通AI机器人（广州）收到请求，开始寻找文献
    23:19:03 已向机器人发送请求

  • 7小时前

    科研浦东 科研浦东 Lv6 求助人 发起了本次求助

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