Research of high-transmission phase-shift mask on critical dimension uniformity in ArF lithography

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标题	Research of high-transmission phase-shift mask on critical dimension uniformity in ArF lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.2641687
DOI	10.1117/12.2641687 doi
其它	期刊：作者：Yilei Zeng; Yi Cheng; Peisheng Li; Teng Zhang; Zhong Zhang; et al 出版日期：2022-09-23
求助人	善良晓蓝在 2026-09-13 14:49:18 发布自上海，悬赏 20 积分
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