| 标题 |
 Wafer-scale and bi-layer MoS 2 films established through sequential mono-layer MoS 2 growth for device applications 相关领域
二硫化钼
材料科学
结晶度
图层（电子）
晶体管
光电子学
氧化物
钼
场效应晶体管
平面的
薄膜晶体管
氧化钼
纳米技术
氧气
原子层沉积
化学工程
二硫键
等效氧化层厚度
电子迁移率
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yu-Han Huang; Hao-Yu Wang; Po-Tsung Lee; Shih-Yen Lin 出版日期：2026-02-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
v0id
DW
Nole
xing_xing
cdercder
凌凌
YY
学术文献互助
潇洒的惋清
OK
舒适的如萱
七听
水煮电吹风
MchemG
鲤鱼灵寒
arniu2008
2052669099
殷勤的紫槐
DOC_XIONG
皖公网安备34019202002308
