Comparison of techniques to characterise the density, porosity and elastic modulus of porous low-k SiO2 xerogel films

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标题	Comparison of techniques to characterise the density, porosity and elastic modulus of porous low-k SiO2 xerogel films
网址	http://dx.doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00589-5
DOI	10.1016/s0167-9317(01)00589-5 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：C Murray; C Flannery; I Streiter; S.E Schulz; M.R Baklanov; et al 出版日期：2002-01-01
求助人	丁莞在 2026-09-01 10:40:34 发布自江西，悬赏 10 积分
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