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  Study of Selective Dry Etching Effects of 15-Cycle Si0.7Ge0.3/Si Multilayer Structure in Gate-All-Around Transistor Process 全栅极晶体管工艺中15周期Si0.7Ge 0.3/Si多层结构选择性干法刻蚀效应的研究
相关领域
材料科学
蚀刻（微加工）
干法蚀刻
反应离子刻蚀
光电子学
德拉姆
堆积
纳米技术
电子工程
图层（电子）
工程类
化学
有机化学
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| 其它 |
期刊：Nanomaterials 作者：Enxu Liu; Junjie Li; Na Zhou; Rui Chen; Hua Shao; et al 出版日期：2023-07-21 |
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摸鱼主编magazine
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