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[求助补充材料] [高分]
 Ultrasonic and dip resist development processes for 50 nm device fabrication 用于50nm器件制造的超声波和浸渍抗蚀剂显影工艺
相关领域
抵抗
材料科学
超声波传感器
纳米技术
空化
光学
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图层（电子）
物理
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：K. L. Lee; J. J. Bucchignano; Jeffrey D. Gelorme; R. Viswanathan 出版日期：1997-11-01 |
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