Effect of Target Bias on TiN Coatings Using Reactive Magnetron Sputtering

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标题	Effect of Target Bias on TiN Coatings Using Reactive Magnetron Sputtering 相关领域材料科学溅射锡溅射沉积高功率脉冲磁控溅射光电子学腔磁控管纳米技术冶金薄膜
网址	https://doi.org/10.3938/jkps.54.1559
DOI	10.3938/jkps.54.1559 doi
其它	期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Sung‐Yong Chun 出版日期：2009-04-15
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