Effect of Target Bias on TiN Coatings Using Reactive Magnetron Sputtering

材料科学 溅射 溅射沉积 高功率脉冲磁控溅射 光电子学 腔磁控管 纳米技术 冶金 薄膜
作者
Sung‐Yong Chun
出处
期刊:Journal of the Korean Physical Society [Springer Science+Business Media]
卷期号:54 (4): 1559-1563 被引量:1
标识
DOI:10.3938/jkps.54.1559
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