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标题
Band alignment of TiO2/SiC and TiO2/Si heterojunction interface grown by atomic layer deposition
原子层沉积生长TiO2/SiC和TiO2/Si异质结界面的能带排列
相关领域
材料科学 异质结 光电子学 碳化硅 原子层沉积 半导体 X射线光电子能谱 硅 覆盖层 基质（水族馆） 电介质 图层（电子） 宽禁带半导体 带隙 纳米技术 化学工程 复合材料 化学 地质学 工程类 海洋学 物理化学
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6641/acd3a4
DOI
10.1088/1361-6641/acd3a4 doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：Yuxuan Zeng; Xi-Rui Wang; Jie Zhang; Wei Huang; Lei Yang; et al
出版日期：2023-05-10
求助人
杭亦竹 在 2025-09-14 23:59:29 发布自四川，悬赏 10 积分
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