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Preparation of Irregular Silica Nanoparticles by the Polymer Templating for Chemical Mechanical Polishing of Sapphire Substrates 相关领域
化学机械平面化
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期刊:Journal of Electronic Materials 作者:Yue Dong; Hong Lei; Yi Chen; Wenqing Liu; Lei Xu; et al 出版日期:2019-05-03 |
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