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标题
Influence of apparatus geometry and deposition conditions on the structure and topography of thick sputtered coatings
设备几何形状和沉积条件对厚溅射镀层结构和形貌的影响
相关领域
材料科学 等轴晶 沉积(地质) 涂层 溅射 微观结构 扫描电子显微镜 阴极 基质(水族馆) 复合材料 合金 衍射 薄膜 结晶学 光学 化学 纳米技术 地质学 古生物学 海洋学 物理 有机化学 物理化学 沉积物
网址
DOI
10.1116/1.1312732 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science and Technology
作者:John A. Thornton
出版日期:1974-07-01
求助人
七七 在 2025-12-06 16:32:52 发布自浙江,悬赏 10 积分
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