Metrology for electron-beam lithography and resist contrast at the sub-10 nm scale

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标题	Metrology for electron-beam lithography and resist contrast at the sub-10 nm scale
网址	https://doi.org/10.1116/1.3501359
DOI	10.1116/1.3501359 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 作者：Huigao Duan; Vitor R. Manfrinato; Joel K. W. Yang; Donald Winston; Bryan M. Cord; Karl K. Berggren 出版日期：2010
求助人	Jack 在 2026-01-30 22:03:52 发布自天津，悬赏 10 积分
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