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  Pushing the limits of EUV mask repair: addressing sub-10 nm defects with the next generation e-beam-based mask repair tool 相关领域
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Tilmann Heil; Michael Waldow; Renzo Capelli; Horst Schneider; Laura Ahmels; et al 出版日期：2021-09-07 |
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